?plasma等離子體能量密度對(duì)H2氣氛下C2H6脫氫反應(yīng)的影響

時(shí)間：2023-03-14作者：深圳子柒科技有限公司瀏覽：74

深圳子柒科技有限公司專注于等離子表面處理機(jī),全自動(dòng)點(diǎn)膠機(jī),等離子清洗機(jī)等

• 詞條

  詞條說(shuō)明

• 等離子體刻蝕機(jī)清洗技術(shù)在塑料及橡膠行業(yè)中的應(yīng)用

  等離子體刻蝕機(jī)是利用高頻輝光放電反應(yīng)，將反應(yīng)氣體為原子或游離基等具有活性的粒子，這些活性粒子擴(kuò)散到需要腐蝕的位置，然后與被刻蝕的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性反應(yīng)物，這種腐蝕方法也稱為干腐蝕。等離子化洗蝕刻技術(shù)是電漿特殊特性的應(yīng)用。等離子體清洗蝕刻技術(shù)的形成設(shè)備，是在密閉器皿內(nèi)用進(jìn)口真空泵達(dá)到相應(yīng)的真空度，隨著氣體的稀薄，分子間隔及分子與離子之間的自由運(yùn)動(dòng)距離變長(zhǎng)，在電場(chǎng)的作用下碰撞形成等離子體，這些離

• 電漿清洗機(jī)清洗有機(jī)場(chǎng)效應(yīng)晶體管(OFET)材料的重要性

  **場(chǎng)效應(yīng)晶體管(OFETS)是一種有源裝置，它能夠通過(guò)改變柵較電壓來(lái)改變半導(dǎo)體層的導(dǎo)電特性，然后操縱通過(guò)源漏較的電流。**場(chǎng)效應(yīng)晶體管作為電路中的基本元件，以其低功耗、高阻抗、、可大面積生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)，受到了廣泛的重視，并得到了迅速的發(fā)展。其組成元器件主要由電極、**半導(dǎo)體、隔熱層和基板組成，這些元件對(duì)OFET的性能有很大影響。通過(guò)電漿清洗機(jī)對(duì)電極、**半導(dǎo)體、絕緣層和基片進(jìn)行處理，提高了材料的功能

• 等離子表面處理機(jī)在頭盔生產(chǎn)中的功能是什么

  自2020年起，在全國(guó)開(kāi)展"一盔一帶"安全守護(hù)行動(dòng)，到現(xiàn)在為止，適當(dāng)和標(biāo)準(zhǔn)地在電瓶車上戴頭盔已成為提高城市公交安全防范意識(shí)的一個(gè)重要方面。雖然近幾年來(lái)頭盔生產(chǎn)加工的科技含量不高，但也呈現(xiàn)出智能化系統(tǒng)、高抗撕裂、高韌性、輕質(zhì)、爆表等發(fā)展趨勢(shì)。等離子表面處理機(jī)的表面處理技術(shù)在頭盔生產(chǎn)制造中有什么作用？下面小編就和大家互相探討一下。? ? ? ?制作頭盔的過(guò)程包括

• plasma等離子處理TEOS工藝沉積二氧化硅薄膜的光譜研究

  二氧化硅薄膜是一種性能優(yōu)良的介質(zhì)材料，它具有介電性能穩(wěn)定，介質(zhì)損耗小，耐潮性好，溫度系數(shù)好等優(yōu)點(diǎn)，具有較其穩(wěn)定的化學(xué)性和電絕緣性。因此，二氧化硅在集成電路工藝中的應(yīng)用很廣泛。? ? ? ? 正是由于二氧化硅薄膜在集成電路工藝中應(yīng)用的廣泛性，所以需要制備具有不同特性的二氧化硅薄膜，這就意味著要不斷研發(fā)出各種新型的薄膜沉積技術(shù)。近年來(lái)，常壓plasma等離子處理