KRI 霍爾離子源應(yīng)用于黑膜鍍制

時(shí)間：2024-01-10作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司瀏覽：19

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• 詞條

  詞條說(shuō)明

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  上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

• 模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)

  模塊式檢漏儀應(yīng)用于氫能行業(yè)真空箱檢漏系統(tǒng)在燃料電池中, 氫氣發(fā)生電化學(xué)反應(yīng)以產(chǎn)生電力并為汽車(chē)提供動(dòng)力. 燃料電池發(fā)電機(jī), 儲(chǔ)氣罐和配電管線需要密封, 防止發(fā)生可能影響性能和安全性的泄漏. 為滿足大批量生產(chǎn)需求, 通常使用自動(dòng)化真空箱檢漏系統(tǒng). 上海伯東德國(guó) Pfeiffer?檢漏模塊 ASI 35?作為自動(dòng)氦檢漏系統(tǒng)的**部件, 提供可靠, 可重復(fù)的泄露檢測(cè), 滿足氫能行業(yè)真空

• 分子泵組玻璃封管抽真空進(jìn)行金屬燒結(jié)試驗(yàn)

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  上海伯東美國(guó)?KRi 霍爾離子源?EH 系列, 提供高電流低能量寬束型離子束, KRi?霍爾離子源可以以納米精度來(lái)處理薄膜及表面, 多種型號(hào)滿足科研及工業(yè), 半導(dǎo)體應(yīng)用.?霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率, 低能量減少離子轟擊損傷表面, 寬束設(shè)計(jì)提高吞吐量和覆蓋沉積區(qū). 整體易操作, 易維護(hù), 安裝于各類(lèi)真空設(shè)備中, 例如 e-beam 電子束鍍膜機(jī), lo