KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應用

時間：2024-01-12

作者：伯東企業(yè)（上海）有限公司

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詞條說明
上海伯東提供適用于薄膜太陽能電池生產的離子源和真空系統(tǒng)
? ? ?在沒有真空的情況下，可再生能源的發(fā)展是不可能的。以光伏發(fā)電（Photovoltaics，PV）為例，這是一種為大家所熟知的能源轉化方式，通過太陽能電池將太陽輻射能轉化為電子流，進而生成電能。? ? ? ?太陽能電池技術有許多種類，其中一種主要的技術是基于薄膜沉積。這種方法的主要優(yōu)點在于，它在制造太陽能電池時消耗的材料較
KRI 考夫曼射頻離子源濺射沉積立方氮化硼薄膜
立方氮化硼（cBN）由于具有高的硬度/ 好的化學惰性/ 較好的熱穩(wěn)定性/ 高的熱導率/ 在寬波長范圍內(約從 200nm 開始) 有很好的透光性/ 可摻雜為 n 型和 p 型半導體等特點, 在切削工具/ 材料/ 光學元件表面涂層/ 高溫/ 高頻/ 大功率/ 抗輻射電子器件/ 電路熱沉材料和絕緣涂覆層等方面具有很大的應用潛力.?在對立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金屬研究所采用
HVA 真空閥門（真空閘閥）成功用于激光真空系統(tǒng)
激光是一種很奇妙的?”物質”,?是人類繼原子能、計算機和半導體之后人類的又一偉大發(fā)現(xiàn).人們都知道,?激光亮度高,?可以達到太陽亮度的10億倍甚.激光純凈無比,?單色性好;?激光具有無比的準直性（直線傳播）;?而且,?激光的能量強大,?瞬間爆發(fā)的能量,?即使堅硬的物體也能夠被穿透、熔化.?因
KRi 考夫曼離子源表面預清潔 Pre-clean 應用
上海伯東代理美國?KRi 考夫曼離子源適用于安裝在 MBE 分子束外延, 濺射和蒸發(fā)系統(tǒng), PLD 脈沖激光系統(tǒng)等, 在沉積前用離子轟擊表面, 進行預清潔 Pre-clean 的工藝, 對基材表面物清洗, 金屬氧化物的去除等, 提高沉積薄膜附著力, 純度, 應力, 工藝效率等！KRi 離子源預清潔可以實現(xiàn)去除物理吸附污染: 去除表面污染, 如水, 吸附氣體, 碳氫化合物殘留去除化學吸附污