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  • KRI 離子源用于離子束拋光機(jī)


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      詞條說(shuō)明

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    • KRi 射頻離子源 IBSD離子束濺射沉積應(yīng)用

      上海伯東美國(guó)?KRi 考夫曼 RF 射頻離子源, 燈絲提供高能量, 低濃度的寬束離子束, 離子束轟擊濺射目標(biāo), 濺射的原子(分子)沉積在襯底上形成薄膜, IBSD 離子束濺射沉積 和 ?IBD 離子束沉積是其典型的應(yīng)用.KRi?離子源在 IBSD 離子束濺射沉積應(yīng)用通常安裝兩個(gè)離子源主要濺射沉積源和二次預(yù)清潔 / 離子輔助源一次氣源為惰性氣體, 二次氣源為惰性或反應(yīng)性

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    • KRI 離子源用于離子束拋光機(jī)

      ?? ? 離子束拋光適用于大面積、異型、特殊材料等加工對(duì)象的非接觸式修形及拋光,?精度可達(dá)亞納米級(jí),?被譽(yù)為拋光.?離子束拋光機(jī)的部件是可聚焦的高能量離子源.?上海伯東某客戶為精密光學(xué)元器件設(shè)備制造商,?主要產(chǎn)品為離子束拋光機(jī)、磁流變拋光機(jī)等,?提供精密光學(xué)工藝制造研發(fā)服務(wù),?是一家精密光學(xué)元器件解

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