X射線光譜方法測定

時(shí)間：2019-12-23作者：深圳市啟威測標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司瀏覽：271

深圳市啟威測標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司專注于表面微觀形貌SEM,材料斷口觀察SEM,表面成分分析EDS,微量污染物成分分析,涂鍍層厚度測試,表面粗糙度量測等

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  詞條說明

• X射線光譜方法測定

  X射線光譜方法測定覆蓋層厚度是基于一束強(qiáng)烈而狹窄的多色X射線與基體和覆蓋層的相互作用。此相互作用產(chǎn)生離散波長和能量的二次輻射，這些二次輻射具有構(gòu)成覆蓋層和基體元素特征。覆蓋層單位面積質(zhì)量（若密度已知，則為覆蓋層線性厚度）和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若覆蓋層材料的密度已知，同時(shí)又給出實(shí)際的密度，則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線性厚度。測試設(shè)

• 表面微觀形貌的測量與評(píng)定

  表面形貌評(píng)定的**在于對(duì)特征信號(hào)無失真的提取和對(duì)使用性能的量化評(píng)定，國內(nèi)外學(xué)者在這一方面做了?大量工作，提出了許多分離與重構(gòu)方法。隨著當(dāng)今微機(jī)處理技術(shù)、集成電路技術(shù)、機(jī)電一體化技術(shù)等的發(fā)展。出現(xiàn)了用分形法、Motif法、功能參數(shù)集法、時(shí)間序列技術(shù)分析法、小二乘多項(xiàng)式擬合法、濾波法等各種評(píng)定理論與方法，**了顯著進(jìn)展。表面是由粗糙度，波紋度和表面形狀誤差3個(gè)部分構(gòu)成的。隨著現(xiàn)代測量精度的不

• 成分分析的作用及目的

  成分分析的目的了解原料成份，質(zhì)量監(jiān)控分析產(chǎn)品中的各個(gè)組分比例，還原產(chǎn)品配方為產(chǎn)品標(biāo)簽尋找證據(jù)證明產(chǎn)品不含某成份為產(chǎn)品性能下降找原因了解成份含量，以了解產(chǎn)品性能解決生產(chǎn)過程出現(xiàn)的問題比較不同時(shí)期的產(chǎn)品成分分析的作用煉鋼爐前分析——控制產(chǎn)品質(zhì)量分析組成成分----還原配方工業(yè)問題診斷----分析原因，消除隱患成品檢驗(yàn)——合格產(chǎn)品的質(zhì)保書深圳市啟威測標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)服務(wù)有限公司（簡稱“啟威測”或“QWC”）成立

• 表面成分分析需要的工具有哪些？

  表面成分分析工具化學(xué)抽提法微譜技術(shù)實(shí)拍--氣相色譜儀微譜技術(shù)實(shí)拍--氣相色譜儀XRF法GC-MSLC-MSICP-MS核磁ICGPCXRD等金屬材料測試常用方法濕法分析直讀光譜（OES）電感耦合等離子體放射光譜（ICP-AES）電感耦合等離子體質(zhì)譜儀（ICP-MS）原子吸收光譜（AAS）手持式XRF