詞條
詞條說(shuō)明
反滲透膜在實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)設(shè)備中起到什么作用?
在實(shí)驗(yàn)室超純水機(jī)設(shè)備中,反滲透膜起著至關(guān)重要的作用,主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面:高效脫鹽反滲透膜的孔徑極小,一般在 0.0001 - 0.001 微米之間。這個(gè)微小的孔徑使得它能夠有效阻擋水中的各種鹽離子,如鈉離子(Na?)、氯離子(Cl?)、鈣鎂離子(Ca2?、Mg2?)等。當(dāng)含有這些離子的水在一定壓力下通過(guò)反滲透膜時(shí),鹽離子無(wú)法通過(guò),只有水分子能夠透過(guò)膜,從而實(shí)現(xiàn)脫鹽的目的。例如,在制備用于化學(xué)分
防止水垢形成水垢產(chǎn)生原理:水中含有鈣、鎂等離子,在加熱或與其他物質(zhì)接觸過(guò)程中,這些離子會(huì)結(jié)合形成碳酸鈣(CaCO?)、碳酸鎂(MgCO?)、氫氧化鎂(Mg (OH)?)等沉淀物,這就是水垢。例如,在熱水鍋爐中,當(dāng)水被加熱時(shí),水中的鈣、鎂離子會(huì)在鍋爐內(nèi)壁逐漸沉積,形成堅(jiān)硬的水垢。水垢的導(dǎo)熱性很差,會(huì)降低熱傳遞效率。據(jù)統(tǒng)計(jì),水垢厚度達(dá)到 1 - 2 毫米時(shí),燃料消耗會(huì)增加 5 - 8%。軟化水設(shè)備工作
電子工業(yè)領(lǐng)域半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體芯片的生產(chǎn)過(guò)程中,幾乎每一個(gè)環(huán)節(jié)都需要高純度的水。從硅片的清洗,到光刻、蝕刻等工藝,都要求水中幾乎不含任何雜質(zhì)。EDI 純水設(shè)備所生產(chǎn)的高純度水(電阻率可達(dá) 18.2MΩ?cm 以上)可以有效地避免水中的離子、有機(jī)物和微生物對(duì)芯片制造過(guò)程產(chǎn)生影響,確保芯片的性能和質(zhì)量。例如,在光刻工藝中,哪怕是微小的顆粒雜質(zhì)也可能導(dǎo)致芯片線路出現(xiàn)缺陷,而 EDI 純水能夠?yàn)楣饪棠z的
反滲透設(shè)備運(yùn)行過(guò)程中常見(jiàn)故障及處理方法
產(chǎn)水量下降原因分析反滲透膜污染:這是產(chǎn)水量下降最常見(jiàn)的原因之一。水中的雜質(zhì),如有機(jī)物、膠體、微生物等,會(huì)在反滲透膜表面形成污垢層,堵塞膜的微孔,從而減少水的透過(guò)量。例如,當(dāng)原水中含有較多的腐殖質(zhì)時(shí),這些有機(jī)物會(huì)吸附在膜表面,隨著時(shí)間的推移逐漸積累,導(dǎo)致產(chǎn)水量降低。進(jìn)水壓力不足:高壓泵是為原水通過(guò)反滲透膜提供壓力的關(guān)鍵設(shè)備。如果高壓泵出現(xiàn)故障,如葉輪磨損、密封不嚴(yán)等,會(huì)導(dǎo)致進(jìn)水壓力下降,水無(wú)法以足夠
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