晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

時(shí)間：2024-01-30作者：鄭州科探儀器設(shè)備有限公司瀏覽：56

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• 晶振片故障現(xiàn)象、原因及解決辦法

  探頭故障現(xiàn)象、原因及排除方法1、沉積期間厚度讀數(shù)大跳變a.?不良晶片產(chǎn)生???解決方案：換晶片b.?晶片接近其使用壽命??解決方案：換晶片c.?晶片支承座表面有雜物???解決方案：用酒精或細(xì)砂皮清洗支承座d.?來(lái)自濺射源的頻率干涉???解決方案：&n

• 中頻和射頻等離子清洗機(jī)之間的主要區(qū)別是

  1. 工作頻率：40KHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為40千赫（40,000赫茲），而13.56MHz等離子清洗機(jī)的工作頻率為13.56兆赫（13,560,000赫茲）。工作頻率不同會(huì)導(dǎo)致設(shè)備清洗效果和適用范圍上的差異。2. 清洗效果：40KHz的低頻等離子清洗對(duì)于大多數(shù)材料都可以達(dá)到較好的清洗效果，但對(duì)于一些微米或亞微米級(jí)別的顆?；蛭廴疚锶コЧ赡懿患选６?3.56MHz高頻等離子清洗則在去除顆粒

• 電感耦合和電容耦合的區(qū)別和應(yīng)用場(chǎng)景

  1. 電感耦合（Inductively Coupled Plasma, ICP）：電感耦合等離子體是通過(guò)高頻磁場(chǎng)與等離子體的相互作用來(lái)傳遞能量的。在電感耦合的過(guò)程中，高頻電流通過(guò)螺線管產(chǎn)生高頻磁場(chǎng)，高頻磁場(chǎng)切割等離子體產(chǎn)生渦旋電流，從而將能量傳遞給等離子體。這種方式的優(yōu)點(diǎn)是穩(wěn)定性好，能量傳遞，適用于高密度等離子體的產(chǎn)生，廣泛應(yīng)用于材料刻蝕、沉積和離子輔助沉積等領(lǐng)域。2. 電容耦合（Capaciti

• 直流負(fù)壓濺射和直流濺射有什么區(qū)別

  直流負(fù)壓濺射和直流濺射??在直流濺射中，帶正電的離子被吸引到接地的、帶負(fù)電的濺射靶上，從靶材上濺射出原子，然后這些原子在樣品（也稱(chēng)為襯底）上沉積形成薄膜。通常情況下，濺射靶被接到正，而樣品端（襯底）被接到負(fù)或接地。??? ?然而，有些情況下（如反濺射或偏壓濺射），樣品端會(huì)被接到正以吸引多余的離子，從而實(shí)現(xiàn)清潔襯底表面或形成離子轟擊確保薄膜