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光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問題是怎么引起的,該如何減少次數(shù)呢? 很多人對光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問題很疑惑,不知道是什么原因產(chǎn)生的,也不知道該如何減少這種情況的發(fā)生,今天至成真空小編為大家講解一下光學(xué)鍍膜機(jī)電子槍打火問題是怎么引起的? 電子槍在蒸鍍時,由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線,即產(chǎn)生打火。另外,若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物,會使該處電場
什么是鍍膜機(jī)鍍膜的均勻性 均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。在光學(xué)薄膜的尺度上看,真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)。原子層尺度上的均勻度,也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,是現(xiàn)在真空鍍膜中主要的技術(shù)含量與技術(shù)瓶頸所在對于多弧離子鍍膜機(jī)的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。鍍膜中化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)
離子鍍膜設(shè)備廠家量大從優(yōu)“本信息長期有效”
多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備 多弧磁控濺射多功能離子鍍膜備可在金屬或非金屬的表面鍍制硬質(zhì)增壽臘、裝飾臘、合金膜或多層臘,可廣泛用于刀刃、模具、鐘表、首飾、燈具、建筑五金及裝飾用彩色鋼板、眼鏡架、電子產(chǎn)品、器械、儀器儀表等領(lǐng)域。 多弧磁控濺射多功能離子鍍膜設(shè)備在真空條件下采用物理氣相沉積技術(shù),在基片上鍍制氮化鈦及其它薄膜。它將多弧離子鍍技術(shù)、柱形靶及磁控油射離子鍍技術(shù)**結(jié)合在一起,可單獨使用或
揭陽磁控多弧復(fù)合鍍膜設(shè)備今日報價 至成鍍膜設(shè)備生產(chǎn)廠家
淺析真空鍍膜機(jī)檢漏方法 真空鍍膜機(jī)廠家介紹查看漏氣狀況是確保真空鍍膜機(jī)真空度的一項查看辦法,簡稱檢漏,真空度的凹凸是直接影響到鍍膜作用的,所以檢漏是**的。 通常真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的銜接位細(xì)縫中發(fā)生,當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)降低,外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi),形成真空度降低。 真空鍍膜機(jī)廠家介紹在檢漏的過程中,需求注意一些問題,才
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